A股湿化学品概念股票，名单整理好了！（2024/5/31）

据南方财富网概念查询工具数据显示，相关湿化学品概念股票有：

1、新宙邦300037：5月31日消息，新宙邦5日内股价上涨3.73%，该股最新报31.400元涨2.68%，成交2.92亿元，换手率1.71%。

公司在ROE方面，从2020年到2023年，分别为12.03%、22.43%、23.54%、11.57%。

2、晶瑞电材300655：晶瑞电材（300655）5月31日开报7.69元，截至15点收盘，该股报7.810元涨0.77%，全日成交3.83亿元，换手率达5.13%。

在ROE方面，从2019年到2022年，分别为5.76%、7.04%、13.99%、8.63%。

3、上海新阳300236：5月31日收盘消息，上海新阳开盘报32.46元，截至15时收盘，该股跌1.01%，报32.460元，总市值为101.72亿元，PE为60.23。

在ROE方面，公司从2020年到2023年，分别为7.14%、2.47%、1.21%、3.74%。

4、安集科技688019：5月31日，安集科技开盘报159.2元，截至下午三点收盘，报157.020元，成交额1.37亿元，换手率0.88%，市值为155.56亿元。

在ROE方面，公司从2020年到2023年，分别为15.94%、11.11%、22.2%、21.47%。

根据光刻胶下游应用领域不同，公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品。公司产品光刻胶去除剂是用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品。光刻胶去除剂一般由去除剂、溶剂、螯合剂、缓蚀剂等组成，其中关键是去除剂和溶剂的选择，从而获得优异的交联光刻胶聚合物的去除；螯合剂及缓蚀剂等添加剂提供金属及非金属基材分子级、原子级保护，并进行光刻胶残留物选择性去除。公司光刻胶去除剂的核心技术包括光阻清洗中金属防腐蚀技术、光刻胶残留物去除技术。